用於半導體應用的石墨解決方案

Hongfeng Carbon Solutions擁有25年使用高純度石墨材料的經驗,應用於離子注入、蝕刻、電子束蒸發等領域。
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適用於半導體行業的高純度石墨解決方案

Hongfeng Carbon Solutions在半導體行業中使用和加工超高純度石墨材料方面擁有數十年的經驗。 我們配備了10K級(ISO 7)潔凈室和超聲波清洗設備,以補充我們先進的加工能力。 弘楓已獲得認證,可進一步加工POCO材料用於半導體的應用。

我們為離子注入、蝕刻、電子束蒸發、坩埚、熔爐、化學氣相沉積 (CVD) 等提供最高品質的石墨元件。

Hongfeng Carbon Solutions還提供玻璃碳(GC)材料以及針對特殊半導體應用的玻璃態石墨(VGI)表面處理服務。
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Cleanroom for semiconductor graphite - 03

Graphite 如何針對半導體行業進行優化

01

超高純度
Hongfeng Carbon Solutions庫存多種半導體行業常用的超高純度等靜壓石墨材料。 我們在潔凈室環境中進行清洗和包裝我們所生產的石墨部件,確保嚴格的品質控制。

02

熱穩定性
石墨出色的熱性能使其能夠均勻地傳導和散熱,以實現高效和一致的蝕刻。它可以承受許多半導體工藝所需的極端高溫。

03

電導率
石墨理想的電氣特性允許在離子注入過程中精確控制離子束。這對於半導體元件的性能至關重要。

04

化學穩定性
石墨的化學穩定性可防止反應,從而保證離子注入過程的純度。它還能抵抗蝕刻過程中的化學腐蝕。

05

均質特性
Hongfeng Carbon Solutions供的優質等靜壓石墨和處理保證了我們生產的設備和元件具有高效、長壽命的運行。

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表面處理
Hongfeng Carbon Solutions為我們的石墨和碳材料提供特殊技術和表面處理,包括玻璃碳和玻璃態石墨。 這些處理進一步增強了材料的性能。

用於半導體工藝的超純石墨

優質材料和品質流程

除了使用世界上最優質的石墨材料外,Hongfeng Carbon Solutions還擁有近三十年的經驗,為半導體行業提供關鍵元件,包括離子注入、蝕刻、化學氣相沉積 (CVD) 等。


我們運行著數十台 2D 和 3D 視覺檢測系統,併為這些關鍵應用維護著一個 10k (ISO7) 的潔凈室。我們經過 ISO9001 認證的品質控制流程是多層次和全面的,以支援我們的零缺陷文化。

半導體石墨元件潔淨室

半導體石墨潔淨室
超聲波清洗
Cleanroom for semiconductor graphite - 03
潔淨室包裝
三級潔凈室入口
See More of Our High-Purity Components

優質材料和品質流程

石墨材料在半導體應用中至關重要,例如離子注入、蝕刻、化學氣相沉積 (CVD)、電子束蒸發、坩埚等。在這些過程中,使用超純石墨成分是必不可少的,因為它們具有卓越的熱穩定性、高純度和耐化學性。這些特性確保了精確和高效的加工,這對於在半導體製造中實現最佳性能和可靠性是必要的。


石墨材料用於離子注入,在半導體中形成摻雜區域,其純度和穩定性可防止污染並確保一致的結果。在蝕刻和 CVD 工藝中,石墨的耐熱性和耐化學性允許精確沉積和去除材料,這對於半導體器件的複雜結構至關重要。對於電子束蒸發和坩埚的使用,石墨的高熔點和導熱性可實現高效的材料蒸發和密封,確保高品質的薄膜和晶片。


Hongfeng Carbon Solutions開發了獨特的火山硬化工藝,用於製造 玻璃碳和玻璃態石墨材料,為半導體行業提供額外優勢。 這類玻璃態材料具備增強的機械強度和更低孔隙率,是要求極高結構完整性的應用的理想選擇。 它們在極端溫度與嚴苛化學環境中展現出優異的純度與耐腐蝕性,適配半導體設備的可靠性及長壽命需求。


作為半導體製造石墨元件的供應商,Hongfeng Carbon Solutions值得您的信賴。 我們通過材料研發與先進精密加工能力,確保石墨元件嚴格按規格生產,滿足半導體行業的嚴苛標準。 憑藉二十多年經驗 ,我們不僅是行業專家,更通過創新解決方案為您提供定製化高品質石墨元件。 我們對品質的堅守、穩定的交付能力,以及對石墨在半導體製造中應用的深刻理解,使我們成為行業領先的創新者與可靠的合作夥伴。

Hongfeng Carbon Solutions的優質石墨元件

瞭解我們的品質控制流程受到全球客戶信賴的一些原因。
為什麼Hongfeng Carbon Solutions使用等靜壓石墨進行生產?
Hongfeng Carbon Solutions公司如何在生產過程中及生產後對部件進行檢測?
半導體行業遵循哪些特殊步驟?
Hongfeng Carbon Solutions可以提供什麼產能?