イオン注入

Hongfeng Carbon Solutionsは、半導体業界向けに超高純度グラファイト材料の使用および加工において数十年の経験を有しています。当社は、クラス10,000(ISO7規格)のクリーンルームと超音波洗浄装置を運用し、最先端の機械加工能力を補完しています。Hongfengは、半導体用途向けのPOCO材料の追加工に関する認証を取得しています。
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特殊ガラス状カーボンとガラス状グラファイト
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イオン注入用グラファイト部品

Graphite Part for Ion Implantation 01Graphite Part for Ion Implantation 02Graphite Part for Ion Implantation 03Graphite Part for Ion Implantation 04Graphite Part for Ion Implantation 06Graphite Part for Ion Implantation 07

クリーンルームの運用

Cleanroom for semiconductor graphite - 03